Comparison between Doped and Undoped Ferroelectric HfO2 - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2023
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04511259 , version 1 (19-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04511259 , version 1

Citer

L. Alrifai, E. Skopin, N. Guillaume, P. Gonon, A. Bsiesy. Comparison between Doped and Undoped Ferroelectric HfO2. The AVS 23rd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2023), Jul 2023, SEATTLE, United States. ⟨hal-04511259⟩
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