Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511259
Soumis le : mardi 19 mars 2024-14:46:46
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:51:37
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04511259 , version 1
Citer
L. Alrifai, E. Skopin, N. Guillaume, P. Gonon, A. Bsiesy. Comparison between Doped and Undoped Ferroelectric HfO2. The AVS 23rd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2023), Jul 2023, SEATTLE, United States. ⟨hal-04511259⟩
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