Development of a robust fabrication process for single silicon nanowire-based omega gate transistors on polyamide substrate - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Semiconductor Science and Technology Année : 2020

Development of a robust fabrication process for single silicon nanowire-based omega gate transistors on polyamide substrate

Domaines

Matériaux

Labo Lmgp  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03118921

Soumis le : vendredi 22 janvier 2021-16:38:05

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03118921 , version 1 (22-01-2021)

Identifiants

Citer

T Arjmand, M Legallais, T Haffner, M Bawedin, C Ternon, et al.. Development of a robust fabrication process for single silicon nanowire-based omega gate transistors on polyamide substrate. Semiconductor Science and Technology, 2020, 36 (2), pp.025003. ⟨10.1088/1361-6641/abcade⟩. ⟨hal-03118921⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UNIV-SAVOIE UGA CNRS IMEP-LAHC LMGP LTM NANOMATERIALS INC-CNRS CEA-DRF CROMA
28 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More