Development of a robust fabrication process for single silicon nanowire-based omega gate transistors on polyamide substrate - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Semiconductor Science and Technology Année : 2020

Development of a robust fabrication process for single silicon nanowire-based omega gate transistors on polyamide substrate

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03118921

Soumis le : vendredi 22 janvier 2021-16:38:05

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:08:07

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Dates et versions

hal-03118921 , version 1 (22-01-2021)

Identifiants

Citer

T Arjmand, M Legallais, T Haffner, M Bawedin, C Ternon, et al.. Development of a robust fabrication process for single silicon nanowire-based omega gate transistors on polyamide substrate. Semiconductor Science and Technology, 2020, 36 (2), pp.025003. ⟨10.1088/1361-6641/abcade⟩. ⟨hal-03118921⟩

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