Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Article dans une revue

Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma

Type de document :
Article dans une revue
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02917572
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 19 août 2020 - 14:49:31
Dernière modification le : jeudi 20 août 2020 - 03:27:44

Identifiants

Collections

Citation

Viet Huong Nguyen, Abderrahime Sekkat, César Arturo Masse de la Huerta, Fadi Zoubian, Chiara Crivello, et al.. Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma. Chemistry of Materials, American Chemical Society, 2020, 32 (12), pp.5153-5161. ⟨10.1021/acs.chemmater.0c01148⟩. ⟨hal-02917572⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

57