Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Chemistry of Materials Année : 2020

Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma

Fichier principal
Vignette du fichier
Revised_Manuscript_highlighted_1904.pdf (1.01 Mo) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-02917572 , version 1 (07-01-2021)

Identifiants

Citer

Viet Huong Nguyen, Abderrahime Sekkat, César Arturo Masse de La Huerta, Fadi Zoubian, Chiara Crivello, et al.. Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma. Chemistry of Materials, 2020, 32 (12), pp.5153-5161. ⟨10.1021/acs.chemmater.0c01148⟩. ⟨hal-02917572⟩
127 Consultations
567 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More