Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Chemistry of Materials Année : 2020

Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma

Viet Huong Nguyen
Laboratoire des matériaux et du génie physique
Phenikaa University
Abderrahime Sekkat
Laboratoire des matériaux et du génie physique
César Arturo Masse de La Huerta
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des matériaux et du génie physique
Fadi Zoubian
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 770132
  • IdRef : 174243685
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
Chiara Crivello
Laboratoire des matériaux et du génie physique
Juan Rubio-Zuazo
  • Fonction : Auteur
European Synchrotron Radiation Facility
Moustapha Jaffal
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Marceline Bonvalot
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Christophe Vallée
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Olivier Aubry
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832704
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
Hervé Rabat
  • Fonction : Auteur
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
Dunpin Hong
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 847656
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
David Muñoz-Rojas
Laboratoire des matériaux et du génie physique

Domaines

Physique [physics]
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Citer

Viet Huong Nguyen, Abderrahime Sekkat, César Arturo Masse de La Huerta, Fadi Zoubian, Chiara Crivello, et al.. Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma. Chemistry of Materials, 2020, 32 (12), pp.5153-5161. ⟨10.1021/acs.chemmater.0c01148⟩. ⟨hal-02917572⟩

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