Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Chemistry of Materials Année : 2020

Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma

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hal-02917572 , version 1 (07-01-2021)

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Citer

Viet Huong Nguyen, Abderrahime Sekkat, César Arturo Masse de La Huerta, Fadi Zoubian, Chiara Crivello, et al.. Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma. Chemistry of Materials, 2020, 32 (12), pp.5153-5161. ⟨10.1021/acs.chemmater.0c01148⟩. ⟨hal-02917572⟩

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