Dry etching challenges for high- block copolymers - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2019

Dry etching challenges for high- block copolymers

G. Pound-Lana
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
P. Bézard
  • Fonction : Auteur
C. Gomes-Correia
  • Fonction : Auteur
X. Chevalier
  • Fonction : Auteur
C. Navarro
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1033864
C. Nicolet
  • Fonction : Auteur
G. Fleury
M. Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02916182

Soumis le : lundi 17 août 2020-14:15:29

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:34

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02916182 , version 1 (17-08-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02916182 , version 1

Citer

G. Pound-Lana, P. Bézard, C. Gomes-Correia, X. Chevalier, C. Navarro, et al.. Dry etching challenges for high- block copolymers. Journées Nationales sur les Technologies Emergentes en Micronanofabrication 2019 – JNTE 2019, Nov 2019, Grenoble, France. ⟨hal-02916182⟩

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