Dry etching challenges for high- block copolymers - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2019

Dry etching challenges for high- block copolymers

P. Bézard
  • Fonction : Auteur
C. Gomes-Correia
  • Fonction : Auteur
X. Chevalier
  • Fonction : Auteur
C. Navarro
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1033864
C. Nicolet
  • Fonction : Auteur
G. Fleury
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02916182 , version 1 (17-08-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02916182 , version 1

Citer

G. Pound-Lana, P. Bézard, C. Gomes-Correia, X. Chevalier, C. Navarro, et al.. Dry etching challenges for high- block copolymers. Journées Nationales sur les Technologies Emergentes en Micronanofabrication 2019 – JNTE 2019, Nov 2019, Grenoble, France. ⟨hal-02916182⟩
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