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Communication dans un congrès

Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02912746
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 6 août 2020 - 15:49:22
Dernière modification le : mercredi 19 août 2020 - 15:14:19

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Salma Younesy, Camille Petit-Etienne, Sebastien Barnola, Pascal Gouraud, Gilles Cunge. Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process. Advanced Etch Technology for Nanopatterning IX, Feb 2020, San Jose, United States. pp.30, ⟨10.1117/12.2549210⟩. ⟨hal-02912746⟩

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