Communication Dans Un Congrès
Année : 2020
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02912746
Soumis le : jeudi 6 août 2020-15:49:22
Dernière modification le : lundi 16 décembre 2024-15:41:05
Citer
Salma Younesy, Camille Petit-Etienne, Sebastien Barnola, Pascal Gouraud, Gilles Cunge. Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process. Advanced Etch Technology for Nanopatterning IX, Feb 2020, San Jose, United States. pp.30, ⟨10.1117/12.2549210⟩. ⟨hal-02912746⟩
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