Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2020

Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02912746

Soumis le : jeudi 6 août 2020-15:49:22

Dernière modification le : lundi 16 décembre 2024-15:41:05

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Dates et versions

hal-02912746 , version 1 (06-08-2020)

Identifiants

Citer

Salma Younesy, Camille Petit-Etienne, Sebastien Barnola, Pascal Gouraud, Gilles Cunge. Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process. Advanced Etch Technology for Nanopatterning IX, Feb 2020, San Jose, United States. pp.30, ⟨10.1117/12.2549210⟩. ⟨hal-02912746⟩

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