Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2020
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02912746 , version 1 (06-08-2020)

Identifiants

Citer

Salma Younesy, Camille Petit-Etienne, Sebastien Barnola, Pascal Gouraud, Gilles Cunge. Cleaning chamber walls after ITO plasma etching process. Advanced Etch Technology for Nanopatterning IX, Feb 2020, San Jose, United States. pp.30, ⟨10.1117/12.2549210⟩. ⟨hal-02912746⟩
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