Area Selective Deposition: how plasma can favor the topographically selective deposition on 3D substrate
C. Vallee
(1)
,
M. Bonvalot
(1)
,
R. Gassilloud
(2)
,
V. Pesce
(1)
,
A. Chaker
(3)
,
S. Belahcen
(1)
,
N. Posseme
(2)
,
B. Pelissier
(1)
,
P. Gonon
(1)
,
A. Bsiesy
(1, 4)
1
LTM -
Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
4 CIME - Centre Interuniversitaire de Micro-Electronique
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
4 CIME - Centre Interuniversitaire de Micro-Electronique