Area Selective Deposition: how plasma can favor the topographically selective deposition on 3D substrate - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Area Selective Deposition: how plasma can favor the topographically selective deposition on 3D substrate

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338940

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-11:02:21

Dernière modification le : lundi 16 décembre 2024-15:36:42

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338940 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338940 , version 1

Citer

C. Vallee, M. Bonvalot, R. Gassilloud, V. Pesce, A. Chaker, et al.. Area Selective Deposition: how plasma can favor the topographically selective deposition on 3D substrate. ASD19 – 4th area selective deposition workshop – IMEC, Apr 2019, Leuven (Belgique), Belgium. ⟨hal-02338940⟩

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