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Communication dans un congrès

Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324706
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 22 octobre 2019 - 09:15:32
Dernière modification le : lundi 17 août 2020 - 14:27:23

Identifiants

  • HAL Id : hal-02324706, version 1

Collections

Citation

E. Pargon, V. Renaud, C. Petit-Etienne, F. Pinzan, E. Despiau-Pujo, et al.. Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source. 236th Electrochemical Society meeting (ECS 2019), Oct 2019, Atlanta, USA, United States. ⟨hal-02324706⟩

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