Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324706

Soumis le : mardi 22 octobre 2019-09:15:32

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:00:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02324706 , version 1 (22-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02324706 , version 1

Citer

E. Pargon, V. Renaud, C. Petit-Etienne, F. Pinzan, E. Despiau-Pujo, et al.. Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source. 236th Electrochemical Society meeting (ECS 2019), Oct 2019, Atlanta, USA, United States. ⟨hal-02324706⟩

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