Communication Dans Un Congrès
Année : 2019
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324706
Soumis le : mardi 22 octobre 2019-09:15:32
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:00:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02324706 , version 1
Citer
E. Pargon, V. Renaud, C. Petit-Etienne, F. Pinzan, E. Despiau-Pujo, et al.. Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source. 236th Electrochemical Society meeting (ECS 2019), Oct 2019, Atlanta, USA, United States. ⟨hal-02324706⟩
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