Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02324706 , version 1 (22-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02324706 , version 1

Citer

E. Pargon, V. Renaud, C. Petit-Etienne, F. Pinzan, E. Despiau-Pujo, et al.. Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source. 236th Electrochemical Society meeting (ECS 2019), Oct 2019, Atlanta, USA, United States. ⟨hal-02324706⟩
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