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Communication dans un congrès

Using plasma etching (RIE-ALE) and ions in Plasma ALD tool for Area Selective Deposition

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01960470
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 19 décembre 2018 - 14:12:16
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:34

Identifiants

  • HAL Id : hal-01960470, version 1

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Citation

C. Vallee, R. Gassilloud, R. Vallat, V. Pesce, S. Belahcen, et al.. Using plasma etching (RIE-ALE) and ions in Plasma ALD tool for Area Selective Deposition. EMRS Fall meeting – SYMPOSIUM N: New ALD approaches towards functional materials and devices, Sep 2018, Varsovie, Poland. ⟨hal-01960470⟩

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