Using plasma etching (RIE-ALE) and ions in Plasma ALD tool for Area Selective Deposition
C. Vallee
(1)
,
R. Gassilloud
(2)
,
R. Vallat
(1)
,
V. Pesce
(1)
,
S. Belahcen
(1)
,
A. Chaker
(1)
,
N. Posseme
(2)
,
B. Pelissier
(1)
,
P. Gonon
(1)
,
M. Bonvalot
(1)
,
A. Bsiesy
(1, 3)