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Impact of In doping on GeTe phase-change materials thin films obtained by means of an innovative plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition process

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01929856
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 21 novembre 2018 - 14:27:53
Dernière modification le : jeudi 30 juillet 2020 - 03:00:32

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Citation

P. Szkutnik, M. Aoukar, V. Todorova, L. Angélidès, B. Pelissier, et al.. Impact of In doping on GeTe phase-change materials thin films obtained by means of an innovative plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition process. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2017, 121 (10), ⟨10.1063/1.4978020⟩. ⟨hal-01929856⟩

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