Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882771
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-13:38:13
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:06
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01882771 , version 1
Citer
A. Chaker, P. Szkutnik, J. Pointet, P. Gonon, Corentin Vallée, et al.. Understanding the Interface Reaction During ALD Deposition of Thin TiO2 Films on RuO2 Layer—Impact on Physical and Electrical Properties of TiO2. MRS Fall Meeting 2016 – symposium EM10, Nov 2016, Boston (USA), United States. ⟨hal-01882771⟩
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