Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Communication dans un congrès

Understanding the Interface Reaction During ALD Deposition of Thin TiO2 Films on RuO2 Layer—Impact on Physical and Electrical Properties of TiO2

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882771
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 13:38:13
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:16

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882771, version 1

Collections

Citation

A. Chaker, P. Szkutnik, J. Pointet, P. Gonon, Corentin Vallée, et al.. Understanding the Interface Reaction During ALD Deposition of Thin TiO2 Films on RuO2 Layer—Impact on Physical and Electrical Properties of TiO2. MRS Fall Meeting 2016 – symposium EM10, Nov 2016, Boston (USA), United States. ⟨hal-01882771⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

16