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Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Understanding the Interface Reaction During ALD Deposition of Thin TiO2 Films on RuO2 Layer—Impact on Physical and Electrical Properties of TiO2

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882771

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-13:38:13

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Dates et versions

hal-01882771 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882771 , version 1

Citer

A. Chaker, P. Szkutnik, J. Pointet, P. Gonon, Corentin Vallée, et al.. Understanding the Interface Reaction During ALD Deposition of Thin TiO2 Films on RuO2 Layer—Impact on Physical and Electrical Properties of TiO2. MRS Fall Meeting 2016 – symposium EM10, Nov 2016, Boston (USA), United States. ⟨hal-01882771⟩

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