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Communication Dans Un Congrès Année : 2016

New plasma technologies for atomic scale precision etching

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01882441 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882441 , version 1

Citer

Erwine Pargon. New plasma technologies for atomic scale precision etching. 13 ième Journées d’échanges des réseaux plasma froids, Oct 2016, La Rochelle, France. ⟨hal-01882441⟩
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