Characterization and Development of High Dose Implanted Resist Stripping Processes - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Solid State Phenomena Année : 2016

Characterization and Development of High Dose Implanted Resist Stripping Processes

Marion Croisy
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1003517
STMicroelectronics [Crolles]
Cécile Jenny
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STMicroelectronics [Crolles]
Claire Richard
Denis Guiheux
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Alain Campo
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Université de Pau et des Pays de l'Adour
Erwine Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Nicolas Posseme
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Laboratoire des technologies de la microélectronique

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Physique [physics]

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Citer

Marion Croisy, Cécile Jenny, Claire Richard, Denis Guiheux, Alain Campo, et al.. Characterization and Development of High Dose Implanted Resist Stripping Processes. Solid State Phenomena, 2016, 255, pp.111 - 116. ⟨10.4028/www.scientific.net/SSP.255.111⟩. ⟨hal-01882437⟩

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