Measuring IVDF through high-aspect holes in pulsed ICP plasma - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Measuring IVDF through high-aspect holes in pulsed ICP plasma

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01878046 , version 1 (20-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878046 , version 1

Citer

G. Cunge, M Darnon, J Dubois, P. Bézard, O. Mourey, et al.. Measuring IVDF through high-aspect holes in pulsed ICP plasma. 68th Gaseous Electronics Conference (GEC), Oct 2015, Honolulu, United States. ⟨hal-01878046⟩
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