Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01825072
Soumis le : jeudi 28 juin 2018-09:13:16
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:34:10
Citer
Martha Sanchez, Vladimir Ukraintsev, Amine Lakcher, Bertrand Le-Gratiet, Julien Ducote, et al.. Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology. SPIE Advanced Lithography, 2017, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2257876⟩. ⟨hal-01825072⟩
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