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Communication dans un congrès

Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01825072
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 28 juin 2018 - 09:13:16
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:04

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Martha Sanchez, Vladimir Ukraintsev, Amine Lakcher, Bertrand Le-Gratiet, Julien Ducote, et al.. Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology. SPIE Advanced Lithography, 2017, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2257876⟩. ⟨hal-01825072⟩

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