Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology

Martha Sanchez
  • Fonction : Auteur
Vladimir Ukraintsev
  • Fonction : Auteur
Amine Lakcher
  • Fonction : Auteur
Bertrand Le-Gratiet
  • Fonction : Auteur
Julien Ducote
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
Pierre Fanton
  • Fonction : Auteur
Ton Kiers
  • Fonction : Auteur
Jan-Willem Gemmink
  • Fonction : Auteur
Stefan Hunsche
  • Fonction : Auteur
Christopher Prentice
  • Fonction : Auteur
Maxime Besacier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Physique [physics]

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Soumis le : jeudi 28 juin 2018-09:13:16

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Citer

Martha Sanchez, Vladimir Ukraintsev, Amine Lakcher, Bertrand Le-Gratiet, Julien Ducote, et al.. Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology. SPIE Advanced Lithography, 2017, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2257876⟩. ⟨hal-01825072⟩

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