Deposition of ZrO2 thin film by AP-SALD for electrochemical applications - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Deposition of ZrO2 thin film by AP-SALD for electrochemical applications

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04735353 , version 1 (14-10-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04735353 , version 1

Citer

Antoine Duhain, David Munoz-Rojas. Deposition of ZrO2 thin film by AP-SALD for electrochemical applications. RAFALD 2023, Nov 2023, Villeuneuve d'Ascq, France. ⟨hal-04735353⟩
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