Deposition of ZrO2 thin film by AP-SALD for electrochemical applications - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Deposition of ZrO2 thin film by AP-SALD for electrochemical applications

Domaines

Matériaux

Anne-Christine Jacob  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04735353

Soumis le : lundi 14 octobre 2024-14:44:03

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:28:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04735353 , version 1 (14-10-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04735353 , version 1

Citer

Antoine Duhain, David Munoz-Rojas. Deposition of ZrO2 thin film by AP-SALD for electrochemical applications. RAFALD 2023, Nov 2023, Villeuneuve d'Ascq, France. ⟨hal-04735353⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UGA CNRS LMGP INC-CNRS
8 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More