Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04512562
Soumis le : mercredi 20 mars 2024-10:13:53
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:12:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04512562 , version 1
Citer
Lucas Jaloustre, Saron-Rosy Sales de Mello, Sébastien Labau, Camille Petit-Etienne, Erwine Pargon. Plasma etching of high aspect ratio GaN and AlN nanopillar arrays for next generation of ultraviolet light-emitting diodes fabrication. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 13th International Workshop, Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04512562⟩
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