Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04511394
Soumis le : mardi 19 mars 2024-15:30:02
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:01:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04511394 , version 1
Citer
E. Despiau-Pujo, V. Martirosyan, F. Pinzana, C. Petit-Etienne, F. Leverd, et al.. Helium and hydrogen plasmas interaction with Si3N4 and SiO2 materials for advanced etch applications : A molecular dynamics study. 13th Plasma Etch and Strip in Microtechnologies workshop (PESM), Jun 2023, Grenoble, France. ⟨hal-04511394⟩
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