Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509424

Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:11:46

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:58:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04509424 , version 1 (18-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04509424 , version 1

Citer

P Ducluzaux, D Ristoiu, G Cunge, E Despiau-Pujo. Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments. Plasma Etch Strip in Microtechnology (PESM), Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04509424⟩

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