Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04509424 , version 1 (18-03-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04509424 , version 1

Citer

P Ducluzaux, D Ristoiu, G Cunge, E Despiau-Pujo. Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments. Plasma Etch Strip in Microtechnology (PESM), Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04509424⟩
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