Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04509424
Soumis le : lundi 18 mars 2024-14:11:46
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:44:28
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04509424 , version 1
Citer
P Ducluzaux, D Ristoiu, G Cunge, E Despiau-Pujo. Carbon Resist Microlens Etching in DF-CCP CF4 plasmas: Numerical investigation versus experiments. Plasma Etch Strip in Microtechnology (PESM), Jun 2023, GRENOBLE, France. ⟨hal-04509424⟩
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