Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal sur l'enseignement des sciences et technologies de l'information et des systèmes Année : 2022

Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER

Résumé

Le CIME Nanotech, Centre Interuniversitaire de Microélectronique et Nanotechnologies, pôle du GIP CNFM (1) de Grenoble, répond aux besoins en formation expérimentale et pratique dans les domaines de la microélectronique et des nanotechnologies au travers de ces huit plateformes. L’offre de travaux pratiques sur la plateforme Salle Blanche, jusqu’alors orientée filière de fabrication de dispositifs micro- et nano-électroniques, propose désormais un travail pratique sur les plasmas appliqués à la gravure ionique réactive de couches minces sur un équipement de type industriel, suivie par interférométrie laser.

Dates et versions

hal-03777033 , version 1 (14-09-2022)

Identifiants

Citer

D. Constantin, C. Petit-Etienne, A. Bsiesy. Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER. Journal sur l'enseignement des sciences et technologies de l'information et des systèmes, 2022, 21, pp.1003. ⟨10.1051/j3ea/20221003⟩. ⟨hal-03777033⟩
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