Controlled SOI nanopatterning for GaN pendeo-epitaxy - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Micro and Nano Engineering Année : 2022

Controlled SOI nanopatterning for GaN pendeo-epitaxy

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03777025

Soumis le : mercredi 14 septembre 2022-11:31:14

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:38

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Dates et versions

hal-03777025 , version 1 (14-09-2022)

Identifiants

Citer

Mrad Mrad, Kilian Baril, Matthew Charles, Jesus Zuniga Perez, Sébastien Labau, et al.. Controlled SOI nanopatterning for GaN pendeo-epitaxy. Micro and Nano Engineering, 2022, 14, pp.100110. ⟨10.1016/j.mne.2022.100110⟩. ⟨hal-03777025⟩

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