Communication Dans Un Congrès
Année : 2022
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03777010
Soumis le : mercredi 14 septembre 2022-11:20:58
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:26:00
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03777010 , version 1
Citer
Evgeni Skopin, Nicolas Guillaume, Liliane Alrifai, Ahmad Bsiesy. Sub 10-nm Ferroelectric HfO2 Capacitors Doped with Gd. Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2022) featuring the 9th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2022), Jun 2022, Ghent, Belgium. ⟨hal-03777010⟩
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