Communication Dans Un Congrès
Année : 2020
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449538
Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-16:00:30
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:45:39
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03449538 , version 1
Citer
Jaffal Moustapha, Taguhi Yeghoyan, Samia Belahcen, Vincent Pesce, Marceline Bonvalot, et al.. Chemically Selective Deposition of TiN by Ion-Assistance during Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition. 29th Materials for Advanced Metallization 2020, 2020, conference virtuelle, France. ⟨hal-03449538⟩
22
Consultations
0
Téléchargements