Top and Bottom Ta2O5 Topographical Selective Deposition on 3D structures by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2020
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449301 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449301 , version 1

Citer

Taguhi Yeghoyan, Moustapha Jaffal, Vincent Pesce, Gauthier Lefevre, Ahmad Chaker, et al.. Top and Bottom Ta2O5 Topographical Selective Deposition on 3D structures by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition. 7th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2020), Jun 2020, virtuelle, France. ⟨hal-03449301⟩
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