Top and Bottom Ta2O5 Topographical Selective Deposition on 3D structures by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2020

Top and Bottom Ta2O5 Topographical Selective Deposition on 3D structures by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449301

Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-15:40:31

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:45:34

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449301 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449301 , version 1

Citer

Taguhi Yeghoyan, Moustapha Jaffal, Vincent Pesce, Gauthier Lefevre, Ahmad Chaker, et al.. Top and Bottom Ta2O5 Topographical Selective Deposition on 3D structures by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition. 7th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2020), Jun 2020, virtuelle, France. ⟨hal-03449301⟩

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