Communication Dans Un Congrès
Année : 2020
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449301
Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-15:40:31
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:45:34
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03449301 , version 1
Citer
Taguhi Yeghoyan, Moustapha Jaffal, Vincent Pesce, Gauthier Lefevre, Ahmad Chaker, et al.. Top and Bottom Ta2O5 Topographical Selective Deposition on 3D structures by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition. 7th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2020), Jun 2020, virtuelle, France. ⟨hal-03449301⟩
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