TiO2 selective deposition on TiN by in situ plasma-induced passivation of SiO2 during PEALD growth - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449168 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449168 , version 1

Citer

Jennifer Not, Constance Glaichenhaus, Tony Maindron, Lucie Mazet, Marceline Bonvalot, et al.. TiO2 selective deposition on TiN by in situ plasma-induced passivation of SiO2 during PEALD growth. 7ème edition du colloque RAFALD, Nov 2021, Marseille, France. ⟨hal-03449168⟩
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