TiO2 selective deposition on TiN by in situ plasma-induced passivation of SiO2 during PEALD growth - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

TiO2 selective deposition on TiN by in situ plasma-induced passivation of SiO2 during PEALD growth

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449168

Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-15:24:41

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:44:46

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449168 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449168 , version 1

Citer

Jennifer Not, Constance Glaichenhaus, Tony Maindron, Lucie Mazet, Marceline Bonvalot, et al.. TiO2 selective deposition on TiN by in situ plasma-induced passivation of SiO2 during PEALD growth. 7ème edition du colloque RAFALD, Nov 2021, Marseille, France. ⟨hal-03449168⟩

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