III-V/Ge Heterostructure Plasma Etching and Passivation With a Single Plasma Process for Low-Damage Multijunction Solar Cell Fabrication,
Mathieu De Lafontaine
(1, 2, 3)
,
E. Pargon
(1)
,
G. Gay
(1)
,
C. Petit-Etienne
(1)
,
J. Barnes
(4)
,
N. Rochat
(4)
,
M. Volatier
(2, 3)
,
A. Jaouad
(2, 3)
,
S. Fafard
(2, 3)
,
V. Aimez
(2, 3)
,
M. Darnon
(2, 3)
1
LTM -
Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
3 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
4 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
2 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
3 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
4 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
V. Aimez
- Fonction : Auteur
- PersonId : 182750
- IdHAL : vaimez
- ORCID : 0000-0002-1594-3242
- IdRef : 144755300