Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2021
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03180749
Soumis le : jeudi 25 mars 2021-11:25:46
Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05
Citer
Moustapha Jaffal, Taguhi Yeghoyan, Gauthier Lefèvre, Rémy Gassilloud, Nicolas Possémé, et al.. Topographical selective deposition: A comparison between plasma-enhanced atomic layer deposition/sputtering and plasma-enhanced atomic layer deposition/quasi-atomic layer etching approaches. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2021, 39 (3), pp.030402. ⟨10.1116/6.0000969⟩. ⟨hal-03180749⟩
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