Procédé de lithographie par auto-assemblage dirigé

X. Chevalier; M. Serege; C. Gomes Correia; M. Zelsmann; G. Fleury

Brevet Année : 2019

Procédé de lithographie par auto-assemblage dirigé

(1) , (2) , , (2) ,

1
2

X. Chevalier

Fonction : Auteur

Arkema

M. Serege

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

C. Gomes Correia

Fonction : Auteur

M. Zelsmann

Fonction : Auteur
PersonId : 740118
IdHAL : marc-zelsmann
ORCID : 0000-0002-7619-4871
IdRef : 07808198X

Laboratoire des technologies de la microélectronique

G. Fleury

Fonction : Auteur
PersonId : 940649
IdHAL : guillaume-fleury
ORCID : 0000-0003-0779-191X
IdRef : 111203864

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02916178

Soumis le : lundi 17 août 2020-14:11:35

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:57:01

Dates et versions

hal-02916178 , version 1 (17-08-2020)

Identifiants

HAL Id : hal-02916178 , version 1

Citer

X. Chevalier, M. Serege, C. Gomes Correia, M. Zelsmann, G. Fleury. Procédé de lithographie par auto-assemblage dirigé. France, Patent n° : FR1911521. 2019. ⟨hal-02916178⟩

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