Etch process cleaning to improve wafer to wafer reproducibility - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Etch process cleaning to improve wafer to wafer reproducibility

T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
C. Petit-Etienne
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Gilles Cunge
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 849083
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Erwine Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
L. Vallier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
N. Posseme
  • Fonction : Auteur
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
Olivier Joubert
Anne Le Gouil
  • Fonction : Auteur
Raphael Ramos
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
Elodie Sungauer
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 859020
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Olivier Luere
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 889055
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
Romain Chanson
  • Fonction : Auteur
Salma Younesy
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02624143

Soumis le : mardi 26 mai 2020-10:44:31

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:23:26

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Dates et versions

hal-02624143 , version 1 (26-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02624143 , version 1

Citer

T. Chevolleau, C. Petit-Etienne, Gilles Cunge, Erwine Pargon, L. Vallier, et al.. Etch process cleaning to improve wafer to wafer reproducibility. ENRIS 2019 (European Nanofabrication Research Infrastructure Symposium), 2019, UNIVERSITY OF TWENTE, Netherlands. ⟨hal-02624143⟩

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