Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2007
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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02352877
Soumis le : jeudi 7 novembre 2019-09:36:15
Dernière modification le : mercredi 11 décembre 2024-03:43:02
Citer
P. Noe, B. Salem, E. Delamadeleine, D. Jalabert, V. Calvo, et al.. Effect of the Er-Si interatomic distance on the Er3+ luminescence in silicon-rich silicon oxide thin films. Journal of Applied Physics, 2007, 102 (10), pp.103516. ⟨10.1063/1.2817512⟩. ⟨hal-02352877⟩
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