Programmed line width roughness metrology by multitechniques approach - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Année : 2018
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02344541 , version 1 (04-11-2019)

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Citer

Jérôme Reche, Maxime Besacier, Patrice Gergaud, Yoann Blancquaert, Guillaume Freychet, et al.. Programmed line width roughness metrology by multitechniques approach. Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2018, 17 (04), pp.1. ⟨10.1117/1.JMM.17.4.041005⟩. ⟨hal-02344541⟩
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