4H-SiC Nanowire arrays formation by nanoimprint lithography, plasma etching and sacrificial oxidation - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

4H-SiC Nanowire arrays formation by nanoimprint lithography, plasma etching and sacrificial oxidation

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02344210

Soumis le : lundi 4 novembre 2019-07:57:36

Dernière modification le : lundi 9 décembre 2024-03:36:28

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02344210 , version 1 (04-11-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02344210 , version 1

Citer

Maximilien Cottat, Antonios Stavrinidis, Cécile Gourgon, Camille Petit-Etienne, Maria Androulidaki, et al.. 4H-SiC Nanowire arrays formation by nanoimprint lithography, plasma etching and sacrificial oxidation. WocSdice 2019, Jun 2019, Cabourg, France. ⟨hal-02344210⟩

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