Single batch strategies for the development of an Area Selective Deposition process with the deposition/etch approach - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Single batch strategies for the development of an Area Selective Deposition process with the deposition/etch approach

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338983

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-11:09:56

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338983 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338983 , version 1

Citer

C. Vallee, M. Bonvalot, R. Gassilloud, V. Pesce, A. Chaker, et al.. Single batch strategies for the development of an Area Selective Deposition process with the deposition/etch approach. 19th International Conference on Atomic layer Deposition (ALD2019), Jul 2019, Bellevue (USA), United States. ⟨hal-02338983⟩

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