Cyclic BCl3-based plasma treatments for enhancing surface quality of (010) β-Ga2O3 substrates - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Cyclic BCl3-based plasma treatments for enhancing surface quality of (010) β-Ga2O3 substrates

Y. Douest
  • Fonction : Auteur
C. Mannequin
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
T. Ito
  • Fonction : Auteur
Graduate School of Environmental Studies [Nagoya]
Y. Ozaki
  • Fonction : Auteur
C. Vallee
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
E. Gheeraert
Semi-conducteurs à large bande interdite
CV
K. Akimoto
  • Fonction : Auteur
M. Sasaki
T. Teramoto
  • Fonction : Auteur
C. Dussarat
  • Fonction : Auteur

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338953

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-11:04:26

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:29

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338953 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338953 , version 1

Citer

Y. Douest, C. Mannequin, T. Ito, Y. Ozaki, C. Vallee, et al.. Cyclic BCl3-based plasma treatments for enhancing surface quality of (010) β-Ga2O3 substrates. Joint Conference of XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10), Jul 2019, Sapporo, Japan. ⟨hal-02338953⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS NEEL LTM CEA-DRF POLYTECH-GRENOBLE
51 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More