TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338914

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-10:57:26

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:25:48

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338914 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338914 , version 1

Citer

M. Fraccaroli, R. Gassilloud, S. Cadot, B. Pellissier, Christophe Vallee, et al.. TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer. 18th European Conference on Applications of Surface and Interface Analyses (ECASIA), Sep 2019, Dresde, Germany. ⟨hal-02338914⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS G2ELAB LTM DRT CEA-DRF LETI CEA-GRE G2ELAB-MDE
45 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More