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Communication dans un congrès

TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338914
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019 - 10:57:26
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338914, version 1

Collections

CNRS | CEA | DRT | LETI | LTM | UGA | CEA-GRE

Citation

M. Fraccaroli, R. Gassilloud, S. Cadot, B. Pellissier, Christophe Vallee, et al.. TMD film growth studied by quasi-insitu XPS on a 300mm silicon wafer. 18th European Conference on Applications of Surface and Interface Analyses (ECASIA), Sep 2019, Dresde, Germany. ⟨hal-02338914⟩

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