Characterizing Ultra-thin Layer Growth and Area Selective Deposition using High Resolution Low Energy Ion Scattering (LEIS) - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Characterizing Ultra-thin Layer Growth and Area Selective Deposition using High Resolution Low Energy Ion Scattering (LEIS)

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338900

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-10:53:12

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:25:46

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338900 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338900 , version 1

Citer

T. Grehl, P. Brüner, V. Pesce, B. Pelissier, R. Gassilloud, et al.. Characterizing Ultra-thin Layer Growth and Area Selective Deposition using High Resolution Low Energy Ion Scattering (LEIS). AVS 66th International Symposium 2019, Oct 2019, Colombus, United States. ⟨hal-02338900⟩

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