Quasi insitu XPS characterization applied to PEALD selective deposition of TiO2 The IMPACT 300mm project and platform: merging academic research and industrial applications in microelectronic - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Quasi insitu XPS characterization applied to PEALD selective deposition of TiO2 The IMPACT 300mm project and platform: merging academic research and industrial applications in microelectronic

Bernard Pelissier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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Soumis le : jeudi 24 octobre 2019-15:42:13

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:06

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hal-02331961 , version 1 (24-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02331961 , version 1

Citer

Bernard Pelissier. Quasi insitu XPS characterization applied to PEALD selective deposition of TiO2 The IMPACT 300mm project and platform: merging academic research and industrial applications in microelectronic. 30th World nanoconference, May 2019, Zurich, Switzerland. ⟨hal-02331961⟩

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